第一百五十八章 仙女山控股（2 / 2）

“如果利用多重曝光技术，193纳米分辨率的浸润式光刻机，理论上甚至能够做到等效十多纳米乃至更低等效工艺的芯片……只不过工艺过于复杂，目前还没有公司在这一技术领域获得过成功。”

“实际上，使用多重曝光技术的话，远不如直接使用光源分辨率更小的EUV光刻机来的简单直接，成本还低。”

徐申学听了后，回忆了一番自己所记得的一些芯片方面的信息，但是能记起来的也不多……也就是什么十四纳米，七纳米，五纳米这些。

他并不知道，二十八纳米以及往上的工艺，计算芯片工艺的时候采用的是栅极长度。

但是到了二十八纳米之下，芯片工艺计算的方式是‘半间距’，算出来的工艺是等效工艺，比如十四纳米工艺……这其实是等效工艺！

而且不同的芯片代工厂因为工艺的差异或者营销的需求，往往会计算等效工艺的公式还不一样，很容易就让人迷惑了。

比如台积电七纳米和英特尔10纳米……这俩玩意虽然工艺不一样，称呼不一样，但实际上性能都差不多，可以简单粗暴的理解为同一技术水准的东西。

但是徐申学却是知道：台积电等效七纳米或英特尔等效十纳米工艺的话，其实已经可以满足绝大部分芯片的需求了……