第39章 高精度（1 / 2）

几天后，在星图团队的核心实验室中，星图站在一块巨大的显示屏前，屏幕上展示着他们光刻机项目的最新进展。团队成员们围在星图周围，每个人的眼神中都透露着专注和期待。

星图：“我们的初步任务已经完成，现在是时候向更高的精度发起挑战。我命令，立即开始第二阶段工作，构建模型和检测光刻机精度的仪器与系统。”

实验室内的气氛瞬间变得更加紧张，每个人都清楚，这将是一场技术的极限挑战。

李思远负责光学系统的设计：“星图院士，我们已经准备好开始构建光刻机的光学模型。通过模拟不同光源和光学配置，我们可以优化光刻机的分辨率和聚焦精度。”

章程中院士专注系统集成：“同时，我们正在设计一套精密的检测系统，它将能够实时监测光刻机的运行状态，包括光源的稳定性、光学系统的对准精度以及机械运动的精度。这将是我们提高光刻机精度的关键。”

星图团队深知，要达到与ASML公司EUV光刻机相媲美的精度，他们必须在光学设计、机械加工、软件算法等多方面实现突破。他们开始研究ASML的成功案例，尤其是EUV光刻机的创新点，包括13.5纳米的极紫外光源的应用，以及蔡司提供的高精度光学系统。

星图：“ASML的成功在于其全球化的供应链和技术创新。我们要借鉴他们的模式，同时，我们也要建立自己的核心竞争力。我们的目标不仅仅是5纳米，我们要追求更小的线宽，更高的集成度。”

星图团队意识到，光刻机的制造是一个高度全球化的工程，涉及光学、机械、电子、软件等多个领域，任何一个环节的失误都可能导致整体性能的下降。因此，他们开始一开始的目标就是与全球顶尖的科研机构和企业一较高下，这要求他们在关键技术和核心部件上加大自主研发的力度。

星图朗声：“很好，各位，我们要在全球化的舞台上展现我们的实力，同时，我们也要保护好自己的核心技术。只有精度超过5nm（纳米)，我们才能在光刻机领域占据一席之地，否则其他太低的精度，不太有竞争力。”

“好！加油。”